阳极氧化处理的“黑”和“亚光黑”因处理方法不同而在特点、加工效果上存在差异。
这次介绍一下各氧化铝处理的工序、推荐使用场景。请加以参考,在今后的选择中使用!
氧化铝“黑”和两种“亚光处理方法”的特点
阳极氧化处理的“黑”有具有光泽的“黑”和消除了光泽的“亚光黑”。“亚光黑”是在表面形成凹凸,抑制光的反射,消除光泽,该消光的基底处理有使用药剂的“化学处理”和实施喷砂加工的“喷砂处理”这两种方法。
各氧化铝处理的特点汇总在一览表中。点击详情栏中的“详情”能够查看各处理的推荐使用场景、部件事例信息。
– | 种类 | 消光的基底处理 | 低反射性 | 美观性 | 成本 | 特点 |
(1) | 氧化铝 “黑” | - | △ | 〇 | ◎ | 有光泽,表面光滑。颜色不均较少。不进行消光处理,所以成本较低。 |
(2) | 氧化铝
| 化学处理 | 〇 | ◎ | 〇 | 有若干反射,但比阳极氧化“黑”弱,抑制了光泽。偶有颜色不均。 |
(3) | 喷砂处理 | ◎ | △ | △ | 3种中最能抑制光泽。容易产生颜色不均。 |
※一览表中的◎〇△是上述3种黑色氧化铝中比较的参考值。
低反射性・・・反射低
美观性・・・颜色不均较少,抑制了光泽的外观优良
成本・・・成本低
氧化铝处理工序追加的“消光”用“基底处理”
氧化铝处理的工序如下所述大致有1.脱脂~6.清洗六道。
(1)氧化铝“黑”:仅为基本的六道工序。
(2)氧化铝“亚光黑”(化学处理):在基本的六道工序的“工序2.蚀刻(整理表面使表面处理容易实施的工序)”之后(下述橘色部分“蚀刻消光用”)追加消光的“基底处理”。有时也会通过延长工序2的蚀刻处理的时间、提高此时的药剂浓度来一并完成消光的处理。
(3)氧化铝“亚光黑”(喷砂处理):在基本的六道工序的“1.脱脂(去掉附着于工件上的油的工序)”之前(下述橘色部分“喷砂”)追加消光的“基底处理”。设备不同,有时也会同时实施喷砂处理和脱脂。
各种处理内容如下,因方法不同,加工效果存在差异。
– | 种类 | 消光的基底处理 | 处理内容和对效果的影响 | 表面和反射的示意图 |
(1) | 阳极氧化 “黑” | - | 由于使用药剂去除表面的氧化膜,因此会形成微小的凹凸。光滑且几乎没有阶梯差,因此不易产生颜色不均,但光的反射较多。 | |
(2) | 阳极氧化 “亚光黑” | 化学处理 | 使用药剂熔融表面,形成凹凸。因为形成光滑的凹凸,所以不易产生颜色不均。光反射比没有凹凸的氧化铝“黑”少。 | |
(3) | 喷砂处理 | 通过对表面喷射小粒体(喷砂加工),来形成凹凸。因为形成锐利的凹凸,所以容易产生颜色不均,但能够分散光反射,比化学处理更能抑制光泽。 |
※刊载信息截至2020年10月。
阳极氧化“黑”
用途 | 卡盘 | |
尺寸 | W150×D167×H61.09 | |
表面处理 | 氧化铝(黑) | |
交货期 | 第5天出厂 |
消光的基底处理 | 低反射性 | 美观性 | 成本 |
– | △ | 〇 | ◎ |
特点
光滑的质感
有光泽
颜色不均较少
推荐使用的场景和部件例
需要光泽的外观设计品
外观设计品等具有美观要求的产品
使用氧化铝“黑”的目的
通常出于“希望呈现美观性”的目的而选择氧化铝“黑”的人较多。例如,有赋予产品高级感和光泽感等迫切期望时,建议选择有光泽的氧化铝“黑”。
阳极氧化“亚光黑” 化学处理
用途 | 传感器罩 | |
材质 | A5052 | |
尺寸 | W191×D150×H80 | |
表面处理 | 氧化铝(亚光黑) | |
基底处理 | 药剂 | |
交货期 | 第5天出厂 |
用途 | 工件工作台 | |
材质 | A5052 | |
尺寸 | W180×D180×H6 | |
表面处理 | 氧化铝(亚光黑) | |
基底处理 | 药剂 | |
交货期 | 第5天出厂 |
消光的基底处理 | 低反射性 | 美观性 | 成本 |
化学处理 | 〇 | ◎ | 〇 |
特点
略有反射,但较弱,光泽暗淡
抑制光泽的效果比氧化铝“黑”强
采用化学处理,表面的凹凸光滑,因此颜色不均比喷砂处理少
因为是在较大的药池中实施消光的基底处理,因此也能处理尺寸较大的部件
【“亚光黑”共通】
色泽沉稳
抑制光泽,伤痕不明显
推荐使用的场景和部件例
光学类部件等希望抑制光反射的产品(想避免漫反射、杂光的场合)
传感器罩等有外观要求的产品
使用“亚光黑”的目的
通常多是出于“想降低反射性”、“想呈现厚重感”的目的而使用“亚光黑”。 例如,通过防止光学类部件等部件的特性上反射来提高性能,或通过抑制光泽来呈现产品的重厚感,使用场景各种各样。
氧化铝“亚光黑” 喷砂处理
用途 | 工件工作台 | |
材质 | A5052 | |
尺寸 | W180×D180×H6 | |
表面处理 | 氧化铝(亚光黑) | |
基底处理 | 喷砂 | |
交货期 | 第9天出厂 |
消光的基底处理 | 低反射性 | 美观性 | 成本 |
喷砂处理 | ◎ | △ | △ |
特点
比“亚光黑”化学处理更加抑制光泽
表面状态有锐利的凹凸,因此容易产生颜色不均
根据实施喷砂处理的设备的大小不同,存在尺寸限制。因此能够处理的部件仅限较小的部件
【“亚光黑”共通】
色泽沉稳
抑制光泽,伤痕不明显
推荐使用的场景和部件例
光学类部件、图像检测品等想抑制光反射的产品
(想避免漫反射、杂光的场景)光学传感器用罩、传感器座
图像识别用工件工作台
使用“亚光黑”喷砂处理的目的
“亚光黑”喷砂处理多在想进一步抑制光泽感(想防止反射)、想进一步提高光学产品的精度等情况下选择使用。
与“亚光黑”化学处理区分使用的要点!
喷砂处理在想尽可能抑制部件的光泽、想尽可能抑制反射的情况下是最佳选择。想将光泽度控制在15(※注)以下等时多会选择“喷砂处理”。