在金属清洗过程中，清洗水的水质极为重要。所需达到的清洁度取决于要清洗的产品用于何种用途、出于何种目的使用。
在电子设备、光学零件、半导体等需要精密清洗的领域，清洗水中即使存在微量杂质也会影响产品精度和成品率，因此不管漂浮物或溶解物具体是什么，都需要尽可能提高水的纯度。这被称为超纯水。
作为水质示例之一，包括电阻率为18MΩ·cm、微粒（0.2 µm以上）为20个/ml以下、活菌为0.2个/ml以下等。
超纯水制造装置的示例之一，如【图1】所示。
首先，过滤掉作为原水的市政供水和井水中的大颗粒物，然后泵入反渗透装置，在那里除了去除离子类以减轻离子交换塔的负荷外，还可去除其他有机物等溶解成分。接着，用脱气装置除去二氧化碳气体。最终在作为混床式纯水装置的离子交换塔中将电阻值升高至标准值。这里得到的纯水经过一级纯水箱、紫外线杀菌装置、去除微量残留粒子的抛光机（离子交换树脂塔）、去除微米以下微细颗粒的超滤过滤后，被提供给使用点（使用场所）。
这样产生的超纯水保存在空气环境中时，除了会溶解空气中的二氧化碳和氧气外，还会滋生各种真菌，所以原则上应尽可能在线使用，不应储存使用，但是在初级纯水储罐等出于工程所需而无法避免的情况下，除了用紫外线杀菌灯照射杀菌外，还要充入氮气阻隔空气。
